カノマックス FMT は半導体製造行程において遭遇する粒子汚染の問題を特定するために使用される画期的な装置を幅広く提供しています。線幅はどんどん狭くなり、20 ナノメートル未満の粒子計測の必要性が業界にとってたいへん重要なものとなっています。化学機械研磨 (CMP) スラリーの飛躍的な成長には新しい測定手法も必要となるでしょう。動的光散乱法 (DLS) を使用して CMP スラリーは今後使用の機会が減るでしょう。
使用中 CMP スラリー内に粒子の凝集があると、スラリー内でほんのわずかに大きな粒径にシフトが発生します。このようにわずかに大きな粒子があると製造時にウェーハの表面に傷が付き、重大なイールド損失につながります。DLS よりもより高性能な粒径監視ソリューションを提供するために、カノマックス FMT とそのパートナー企業である CT Associates 社は、液中ナノパーティクルサイザーシステム (LNS) を開発しました。LNS はマルチモードのスラリー内でより精度の高い粒径解像度を持ち、5nm まで検出できます。
カノマックス FMT の走査型液中ナノパーティクルカウンター (STPC) は非光学的なパーティクルカウンターで、超純水 (UPW) において 10nm の個々の粒子を検出できる世界初の商用利用可能なオンライン粒子カウンターです 。STPC は最もクリーンな UPW であっても、1 リットルあたりに何万という非常の多くの粒子を検出します。STPC は 20nm 以下の粒子検出において業界標準となるでしょう。
カノマックス FMT では標準を正確に希釈するために、高濃度コロイダルシリカ校正標準および高精度希釈システムのラインナップを揃えています。STPC の校正にはこれらの標準が使用されています。
不揮発性残渣モニター (NRM) は Fluid Measurement Technology 社の旗艦製品でした。高純度の水に残る不揮発性残渣を計測するために開発された NRM は、世界中で活躍してきました。現在、第 3 世代の NRM を開発中です。
