デバイス線幅の収縮が進む今日の半導体製造の世界では、不良となる欠陥を抑えるために超高純度の水を使用することが極めて重要です。ウェーハ 1 枚を洗浄して加工するために何千リットルもの超純水 (UPW) が使われています。洗浄後にウェーハ表面に少しでも溶存不純物が残留すれば、半導体の最終製品に欠陥が発生する原因となります。不揮発性残渣モニター (NRM) は Fluid Measurement Technology 社のオリジナルな旗艦製品で、この問題に対処するよう設計されました。発明時にはユニークなものでしたが、今では世界中で販売されています。
NRM はマイクロエレクトロニクス産業の UPW システムにおいて、溶存無機物やコロイダルシリカなどの不純物を確実に測定する業界標準機器です。NRM は、TOC モニター、パーティクルカウンター、オンライン反応性シリカモニターなど、他の検出方法では検出できない汚染物質を検出します。NRM は水質劣化を真っ先に捉える測定器となることが多く、それゆえに価格競争において明らかな優位性を示すことができます。NRM は ASTM 規格 D5544-05、”Standard Test Method for On-Line Measurement of Residue After Evaporation of High Purity Water” (超純水の蒸発後の残渣物のオンライン測定に関する標準的な試験方法) に適合する唯一の測定器です。
